网易科技讯 4月13日消息，麻省理工学院（MIT）的研究人员发现了一种新方法，可在微芯片上蚀刻出36纳米的线路，可望对芯片制造产生重大影响。
此项研究是由MIT电子研究室、化学工程和电机工程学系的科学家们所共同进行，结果已发表于4月10日出刊的科学（Science）杂志上。利用这项技术，研究人员可产生出只有36纳米宽的线路。
此技术是利用不同波长的光线，使一种特殊材料能在透明与不透明之间转换，以产生线路。此材料并非一种全新材料，只是研究人员发现了一种新方式，可使其用来产生具有极细透明线路的光罩，然后再将此光罩用来产生晶圆上的相应线路。
能够产生极细线路对许多新科技来说，都是非常重要的。从日益微缩的芯片制造到新兴的纳米图案都用得到。但这些技术都面临基本的限制，因为必须依赖光源来产生图案，而现有用来产生图案的技术，都无法制作出比光源本身波长小很多的线路。但现在，MIT的研究人员突破了这项限制。
此技术的关键在于利用干扰图案，也就是不同波长光线所造成的加强与抵销效果。研究人员将光学变色（photochromic）材料暴露在一组具不同波长光线的干扰图案中，便能够在不透明材料上形成极细的透明线路。
研究人员称这项技术为“吸光模组”（absorbance modulation），可用来产生约光波长十分之一的线路。此技术的重点之一，是要找到适合的光学变色材料，能在暴露于光线下时，形成稳定的透明与非透明图案。
MIT表示，这项技术除了会对芯片制造产生重大影响，也能为许多新兴的纳米领域带来全新发展。目前已有一家公司与MIT合作持续开发这项技术，MIT表示，希望能在五年内将其商业化。
此外，MIT表示，目前研究团队正试图将此技术用在影像系统，有可能进一步开创出拥有纳米级解析度的全新显微镜，可用在生物科技与材料科学的研究。同时，研究团队还在探索，这项技术是否有可能产生分子级的更细线路。（刘文）
本文来源：网易科技报道
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